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石英玻璃在半導體(ti) 工業(ye) 設備上，使用溫度經常在 1000 ℃至 1300 ℃之高溫狀態，在此種狀態下由於(yu) 附著不純物導致失透現象發生，失透之部分為(wei) 石英之晶質化，晶質化之變態點為(wei) 275 ℃，當石英玻璃自高溫降至此變態溫度時，表麵失透之晶質化部分與(yu) 石英玻璃本身高溫之 α 相與(yu) 低溫之 β 相間膨脹係數不同在急速冷卻下產(chan) 生不透明之剝離狀更嚴(yan) 重時會(hui) 造成破裂現象產(chan) 生。為(wei) 使石英製品能使用更久，就必須注意防止造成石英失透產(chan) 生的原因，而造成失透的汙染源就屬堿金屬、堿土金屬、汗水、口水、油汙、塵埃 …… 等等。且0.1mg/cm2l}k 就會(hui) 造成數十倍或數百倍的失透量。因此，防止這些汙染源附著在石英表麵上除了不直接用空手去拿石英外， 使用在高溫作業(ye) 之前必先做清洗之工作以確保石英表麵之潔淨度。
一般石英之洗淨須要一些程序， 首先用純水先衝(chong) 洗表麵，再置入酸洗槽內(nei) 浸泡一些時間，取出後再用純水衝(chong) 洗後晾幹。
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